Китай начал серийное производство разработанных внутри страны иммерсионных литографических установок глубокого ультрафиолета (DUV), необходимых для выпуска современных микросхем. Об этом сообщает Reuters со ссылкой на источник, знакомый с проектом.
Иммерсионная DUV-литография использует слой воды между объективом и кремниевой пластиной, что позволяет формировать более мелкие элементы схем, чем традиционная «сухая» литография. Такие установки применяются для производства широкого спектра микросхем, а при использовании технологии многократной экспозиции позволяют выпускать и более сложные полупроводники.
По данным агентства, производство возглавляет малоизвестная государственная компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, объединившая команды нескольких китайских стартапов, которые разрабатывают литографическое оборудование.
Как отмечает агентство, запуск производства стал важным этапом программы Пекина по достижению технологической независимости в сфере полупроводников. Однако в ближайшей перспективе китайские разработки не смогут составить серьезную конкуренцию нидерландской компании ASML, которая остается мировым лидером на рынке DUV-литографии.
Ранее издание The Information сообщило, что государственная компания из Шанхая начала выпуск таких машин и рассчитывает произвести около пяти установок в этом году и около двадцати — в следующем. Reuters называет производителя — компания Aishengna.
Эта компания была зарегистрирована в августе 2023 года с уставным капиталом 7 млрд юаней (около $1 млрд). Ее акционерами являются государственные Shanghai Electric Holding и дочерняя структура Shanghai International Trust. У компании нет собственного сайта, а публичная информация о ее деятельности практически отсутствует.
США запрещают поставки Китаю самых современных EUV-литографов ASML. Экспортные лимиты Нидерландов также ограничивают доступ китайских производителей к части современных DUV-систем.
По словам источника агентства, китайские DUV-литографы еще нуждаются в дополнительных испытаниях и пока значительно уступают аналогам ASML.
Тем не менее успешное внедрение собственных установок позволит китайским производителям микросхем снизить зависимость от иностранных поставщиков в случае дальнейшего ужесточения западных экспортных ограничений или запрета на обслуживание зарубежного оборудования.
По информации The Information, первые китайские DUV-литографы уже в этом году планируется поставить крупнейшим производителям микросхем страны, включая SMIC, Hua Hong Semiconductor и производителя памяти ChangXin Memory Technologies (CXMT).
Это значимая новость, но с оговорками, отмечает в разговоре с The Insider эксперт в отрасли на правах анонимности:
«Этот новый производитель объединил несколько других команд, в том числе специалистов из довольно известной компании SMEE. Она давно на слуху, потому что уже около десяти лет обещает выпустить DUV-литограф для техпроцесса 28 нм „через полгода“. Лучшее, чего компании удалось добиться за это время в серийном производстве, — DUV-литограф для 90-нм техпроцесса. По слухам, он работал настолько плохо, что китайские производители продолжали закупать оборудование ASML.
Государственной программе Китая по достижению независимости в производстве микросхем уже много лет, однако пока ее результаты трудно назвать успешными. Некоторое время назад собственными разработками в этой области занялась Huawei. Судя по имеющейся информации, результаты там лучше, но проекты гораздо сильнее засекречены.
SMIC регулярно появляется в новостях благодаря производству чипов по техпроцессам 5–7 нм на оборудовании ASML. Однако компания выпускает их с использованием DUV-литографии, тогда как конкуренты из Тайваня, Южной Кореи и США используют EUV. Без EUV производство таких микросхем требует значительно большего числа технологических операций, из-за чего себестоимость оказывается в разы выше.
В целом я бы сказал, что эта новость скорее про пиар и долгосрочные перспективы. О технологической независимости Китая от западных технологий в производстве передовых микросхем пока говорить преждевременно».